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上海华力集成电路制造申请改善通孔底部铜互连金属损伤专利

2025-02-17 08:42:34      来源:北方有色网      责任编辑:韩泽楷
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  金融界 2025 年 2 月 13 日消息,国家知识产权局信息显示,上海华力集成电路制造有限公司申请一项名为 “改善通孔底部铜互连金属损伤的方法” 的专利,公开号 CN 119400753 A,申请日期为 2024 年 10 月。
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