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复制链接2024年12月9日,国家知识产权局最新公开信息显示,安徽日竞控制技术有限公司于2024年8月申请的**“光刻机超静态精密温度供液控制系统”**(公开号CN119087749A)正式进入实质审查阶段。该专利瞄准光刻机热管理核心技术瓶颈,提出创新性解决方案。
动态仿真模型构建
智能控制算法突破
跨系统协同优化
行业意义:此专利标志着我国在光刻机核心温控领域实现自主突破,相关技术参数已超越ASML Twinscan NXT系列光刻机的温控精度(±0.005℃),为国产半导体设备产业链补上关键一环。